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时间:2020-10-15 信息来源:集微网 作者: 浏览次数:900
信越化学拟砸2.85亿美元在日本、中国台湾地区设厂
【摘要】

据日经亚洲评论报道,日本信越化学公司(Shin-Etsu Chemical)将花费约300亿日元(2.85亿美元),把半导体光刻胶的产能提高20%,以扩大高端芯片制造半导体关键材料的供应。该报道指出,信越化学将在日本和中国台湾地区建厂。其中,中国台湾地区云林县的新厂预计在2021年2月开始投产可与极紫外线 (EUV) 光刻技术兼容的光刻胶,以满足台积电等苹果供应链台系客户的需求。

另外,其在日本新泻县的直越新厂将于2020年2月开始运行。随着员工人数的增加,中国台湾地区和日本的产能将分别提高60%和20%。

除了台系客户外,信越化学扩充产能也将满足韩国、中国大陆和其他市场的客户需求。

随着5G设备、数据中心和其他应用的芯片需求上升,光刻胶领域的需求日益旺盛。研究公司富士经济(Fuji Keizai)预计,2019年至2024年,光刻胶市场将增长60%,达到约2500亿日元。

鉴于此,信越化学的竞争对手JSR和Tokyo Ohka Kogyo(TOK) 也在日本和海外生产EUV光刻胶,住友化学(Sumitomo Chemical)和富士胶片(Fujifilm)也准备进入该领域。

日本公司总共占据了全球光刻胶市场的80%,单信越化学一家就占据了20%-30%的市场份额,该公司生产的光刻胶以高灵敏度和高效制成效率而闻名。