电子工业用含氟气体CxHyFz主要用于半导体制程中的清洗和蚀刻。不同产品和配比用于不同的工艺制程。是用途最为广泛的清洗、蚀刻用气体。主要产品和规格见下表：

名称	化学式	规格
高纯一氟甲烷	CH3F	4N5
高纯二氟甲烷	CH2F2	4N8
高纯三氟甲烷	CHF3	5N
高纯六氟乙烷	C2F6	5N
高纯六氟丙烯	C3F6	4N
高纯八氟丙烷	C3F8	5N
高纯八氟环丁烷	C4F8	5N

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