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产品介绍

一、产品规格及参数指标

项目

单位

公司产品指标

NF3

Vol.%

≥99.99

≥99.996

CF4

Vol .ppm

≤40.0

≤20.0

N2

Vol .ppm

≤10.0

≤5.0

O2+Ar

Vol .ppm

≤5.0

≤3.0

CO

Vol .ppm

≤5.0

≤0.5

CO2

Vol .ppm

≤5.0

≤0.5

N2O

Vol .ppm

≤5.0

≤1.0

SF6

Vol .ppm

≤5.0

≤1.0

H2O

Vol .ppm

≤1.0

≤1.0

Express as HF

Vol .ppm

≤1.0

≤1.0


















二、产品应用

1.       三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性,而且对表面无污染,是电子行业中优良的等离子蚀刻气体。

2.       三氟化氮可大量减少污染物的排放,及显著提高清洗速度,用于化学蒸汽沉积(CVD)箱清洗,也可作蚀刻剂用做LCD加工。

3.       在非晶硅薄膜太阳能电池成膜过程中用于腔体清洗。

     在氟化石墨生产中裂解后作为高质量、高纯度的氟来源。


山东飞源科技有限公司

刘光宇 销售总监

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