名称：三氟化氮
级别：电子级
企业：山东飞源科技有限公司
应用：半导体集成电路、液晶面板及太阳能电池领域
一、产品规格及参数指标
项目
单位
公司产品指标
NF3
Vol.%
≥99.99
≥99.996
CF4
Vol .ppm
≤40.0
≤20.0
N2
Vol .ppm
≤10.0
≤5.0
O2+Ar
Vol .ppm
≤5.0
≤3.0
CO
Vol .ppm
≤5.0
≤0.5
CO2
Vol .ppm
≤5.0
≤0.5
N2O
Vol .ppm
≤5.0
≤1.0
SF6
Vol .ppm
≤5.0
≤1.0
H2O
Vol .ppm
≤1.0
≤1.0
Express
as HF
Vol .ppm
≤1.0
≤1.0
二、产品应用
1. 三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，是电子行业中优良的等离子蚀刻气体。
2. 三氟化氮可大量减少污染物的排放，及显著提高清洗速度，用于化学蒸汽沉积（CVD）箱清洗，也可作蚀刻剂用做LCD加工。
3. 在非晶硅薄膜太阳能电池成膜过程中用于腔体清洗。
山东飞源科技有限公司
刘光宇 销售总监
