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产品介绍
KMP CP4800系列光刻胶是专为先进封装制程设计的正性厚膜光刻胶,膜厚可以覆盖10-40um的范围,具有高分辨率,高耐热性,在KOH与TMAH显影液均可适用的特点,已在大陆和台湾封装企业商业量产。